沿革
年 | 月 | (株)ジャパンセミコンダクター |
2016 | 4月 | (株)東芝 大分工場と岩手東芝エレクトロニクス(株)が統合し 『(株)ジャパンセミコンダクター』が誕生 |
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年 | 月 | 岩手東芝エレクトロニクス(株) | (株)東芝 大分工場 |
2015 | 6月 | 平成27年環境対策に係る模範的取組表彰「環境大臣賞」 受賞 | |
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2014 | - | Viscontiシリーズ(画像認識LSI)生産開始 | |
2013 | 5月 | 創立40周年 | スマートフォン用イメージセンサ製品本格量産開始 |
2012 | 10月 | 3R推進功労者表彰「経済産業大臣賞」を受賞 | |
9月 | CMOSエリアイメージセンサ (2M 1.75μmセンサ)初倉入 |
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8月 | WLCSP量産開始 | 一眼レフ用センサー製品生産開始 | |
7月 | アナログ製品量産開始 | ||
2011 | 9月 | 厚生労働大臣表彰(障がい者雇用優良事業所)を受賞 | |
3月 | 第5種無災害記録達成(5回目) | ||
2010 | 9月 | 生産品100億個達成 | 創立40周年 |
3月 | CMOSリニアセンサ初倉入れ | ||
2月 | Gratronリニアセンサ初倉入れ | ||
2009 | 10月 | 環境大臣表彰(循環型社会形成推進功労者)を受賞 | |
4月 | 北九州工場と統合 | ||
2008 | 7月 | ISO14001認証取得 | ISO14001認証取得 |
(株)東芝セミコンダクター社 グループ統合認証取得 |
(株)東芝セミコンダクター社 グループ統合認証取得 |
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5月 | 創立35周年 | ||
3月 | OHSAS18001 (株)東芝統合認証取得 | OHSAS18001 (株)東芝統合認証取得 | |
CSCM初倉入れ | |||
2月 | TSVライン量産開始 | ||
2007 | 7月 | 厚生労働大臣表彰奨励賞(無災害継続)を受賞 | |
3月 | IR見学会を開催 | ||
2006 | 9月 | CMOS3E(LCDドライバ)初倉入れ | |
2月 | ISO/TS16949認証取得 (車載用マイクロプロセッサ) |
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1月 | 第5種無災害記録達成(1回目) | ||
2005 | 12月 | クリーンルーム第3棟量産開始 | |
創立35周年 | |||
6月 | パワーMOS製品、姫路半導体工場との コラボレーション開始 |
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4月 | 「大分県LSIクラスター形成推進会議」発足 | ||
2月 | 300mmウェハーによる65nmプロセス製品を世界初出荷 | ||
2004 | 12月 | (5セ)終息〜34年の歴史に幕 | |
10月 | 8インチ製品初倉入れ | ||
7月 | 280棟ウェルカムルーム完成 | ||
日本赤十字社より「金色有功章(献血活動)」を受賞 | |||
6月 | 150棟170棟のクリーンルームに棟間通路完成、170棟270棟棟間渡り廊下完成 | ||
2003 | 6月 | 300mm新棟着工(280棟) | |
2002 | 12月 | QS-9000認証取得 (車載用マイクロプロセッサ) |
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11月 | QS-9000認証取得 | ||
7月 | CMOS3量産開始(プリンター向け、デジタルカメラ向け) | ||
1月 | 第5種無災害記録達成(通算4回目) | ||
2001 | 12月 | 420棟クリーンルーム終息 | |
2月 | 170棟(アネックス棟)8インチ稼動 | ||
1月 | 後工程会社 アムコー岩手(株)が 構内に立地 |
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2000 | 7月 | 創立30周年 | |
6月 | 170棟(アネックス棟)の建設を開始 | ||
3月 | 東芝と大日本印刷による共同出資会社ディー・ティー・ファインエレクトロニクス(株)北上工場が構内に立地 | ||
1999 | 4月 | MI2001運動スタート | |
2月 | 通産大臣賞(省エネ活動)を受賞 | ||
1997 | 10月 | システムLSIの生産開始 | |
9月 | ISO14001認証取得 | ||
6月 | フラッシュメモリ量産化 | ||
1996 | - | ISO14001認証取得 | |
1995 | 12月 | 8インチウェーハの投入開始 | |
5月 | クリーンルーム第3棟完成 | ||
1993 | 3月 | ISO9001認証取得 | |
1991 | 8月 | 16M DRAMの生産開始 | |
4月 | 新組立棟完成 | ||
1990 | 6月 | 270棟完成 | |
1989 | 2月 | クリーンルーム第2棟完成 | |
1月 | 530棟完成 | ||
1988 | 10月 | 4M DRAMの生産開始 | |
1987 | 10月 | 120棟の竣工式を挙行 | |
1985 | 12月 | 一貫生産開始 | |
11月 | 1M DRAMの量産開始 | ||
4月 | 110棟完成 | ||
1月 | 100棟完成 | ||
1984 | 9月 | 本社工場竣工 クリーンルーム第1棟完成 |
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7月 | 256K DRAMの生産開始 | ||
1982 | 11月 | CPU(マイコン)の生産開始 | |
10月 | 新高速C2MOSロジックの生産開始 | ||
1979 | 10月 | 4KCRAMの生産開始 | |
8月 | 高速C2MOSロジックの生産開始 | ||
1974 | 5月 | 430棟完成 | |
1973 | 10月 | C2MOSロジックの生産開始 | |
7月 | 420棟完成 | ||
5月 | 高耐圧パワートランジスタの 後工程生産開始 |
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1月 | 岩手東芝エレクトロニクス会社設立 | ||
1971 | 11月 | TV用ICの生産開始 | |
1970 | 7月 | 大分工場操業開始 汎用ロジック生産開始 |